Number of the records: 1  

Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny

  1. 1.
    SYSNO0462264
    TitleVysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny
    TitleRadio-frequency apparatus for measuring plasma parameters by making use of wave resonance of electron cyclotron wave
    Author(s) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
    Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
    Issue data2016
    Name of the ownerFyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    Date of the utility model acceptance07.06.2016
    Utility model number29519
    Utility model typeU - Užitný vzor
    Utility model categoryE - Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad ČR)
    Code of the issuer nameCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Document TypeUžitný a průmyslový vzor
    Grant TA03010743 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportFZU-D - RVO:68378271
    Languagecze
    Keywords ECWR * low-temprature plasma * thin film * plasma density * plasma deposition
    URL https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029519.pdf
    Permanent Linkhttp://hdl.handle.net/11104/0261744
     
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.