Number of the records: 1
Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami
- 1.
SYSNO 0434553 Title Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami Title Phase photo masks produced by means of electron beam lithography and ion etching for Bragg gratings Author(s) Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Šerý, Mojmír (UPT-D) RID, SAI
Mikel, Břetislav (UPT-D) RID, SAISource Title Sborník příspěvků multioborové konference Laser54. S. 31-32. - Brno : Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2014 Conference Laser54, Třešť, 29.10.2014-31.10.2014 Document Type Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant LO1212 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS), CZ - Czech Republic ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) TE01020233 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) TE01020118 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support UPT-D - RVO:68081731 Language cze Country CZ Keywords electron beam lithography * industrial holography Permanent Link http://hdl.handle.net/11104/0238707
Number of the records: 1