Number of the records: 1
Vícetryskový PVD depoziční systém
- 1.
SYSNO ASEP 0465021 Document Type L - Prototype, Functional Specimen R&D Document Type Prototype, Functional Specimen RIV Subspecies Functional Specimen Title Vícetryskový PVD depoziční systém Title Multijet PVD deposition system Author(s) Šmíd, Jiří (FZU-D)
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAIYear of issue 2016 Int.Code UHV-4DK/FZU2016 Technical parameters Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod. Economic parameters Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost. Owner Name Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Na Slovance 2, Praha 8 Registration Number of the result owner 68378271 Applied result category by the cost of its creation A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Use by another entity P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence License fee fee Z - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords hollow cathode discharge ; multi plasma-jet ; thin films ; PVD ; sputtering Subject RIV BL - Plasma and Gas Discharge Physics R&D Projects TF01000084 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation Funkční vzorek představuje vysokorychlostní depoziční zařízení určené primárně pro nanášení homogenních oxidových vrstev. Systém využívá několik plazmatických trysek umístěných do jedné řady, které pracují na principu výboje v duté katodě. Vysoké depoziční rychlosti je dosahováno kombinací nereaktivního rozprašování ve vnitřním prostoru duté katody a tepelnou evaporací materiálu z povrchu trysky. Description in English High speed deposition system for homogenous sputtering of oxide thin films. The system uses several plasma-nozzles mounted in one line, which work on the principle of hollow cathode discharge. High speed of deposition process is achieved by combination of non-reactive sputtering inside the hollow cathode with thermal evaporation of hollow cathode material. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2017
Number of the records: 1