Number of the records: 1

Systém pro realizaci depozice perovskitových vrstev

SYSNO ASEP	0092357
Document Type	L - Prototype, Functional Specimen
R&D Document Type	Prototype, Functional Specimen
Title	Systém pro realizaci depozice perovskitových vrstev
Title	System for deposition of perovskite layers
Author(s)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Virostko, Petr (FZU-D) Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Jastrabík, Lubomír (FZU-D)_{RID, ORCID} Churpita, Olexandr (FZU-D)_{RID, ORCID} Suchaneck, G. (DE) Deyneka, Alexander (FZU-D) Hrabovský, Miroslav (FZU-D)_{RID, ORCID}
Year of issue	2007
Int.Code	17135
SResult web page, Location of the result	Fyzikální ústav AV ČR Praha
Technical parameters	Technologie a metoda realizace perovskitových vrstev
Economic parameters	-
Owner Name	Fyzikální ústav AV ČR Praha
Registration Number of the result owner	68378271
Applied result category by the cost of its creation	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Use by another entity	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
License fee fee	N - Poskytovatel licence nepožaduje licenční poplatek
Language	cze - Czech
Country	CZ - Czech Republic
Keywords	perovskite layers ; deposition
Subject RIV	BH - Optics, Masers, Lasers
R&D Projects	1M06002 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
	1QS100100563 GA AV ČR - Academy of Sciences of the Czech Republic (AV ČR)
CEZ	AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
Annotation	Systém využívá pro depozici dielektrických vrstev BaxSr1-xTiO3 (BSTO – ferroelektrické perovskity), vykazujících výraznou závislost permitivity na přiloženém stejnosměrném elektrickém napětí, vysokofrekvenčního (RF) plazmochemického reaktoru s proudícím plazmatickým kanálem a s alespoň dvěma dutými katodami napojenými na přívod pracovního plynu, které jsou vybaveny samostatným výkonovým RF generátorem, přitom katody jsou opatřeny tryskami z dielektrických materiálů BaTiO3 a SrTiO3. S pomocí měření RF proudu a napětí vzorkovacími osciloskopy lze systémem dosáhnout rychlé depozice nehomogenních vrstev vhodné kvality se spojitě proměnlivým stechiometrickým parametrem x. Vzhledem k nízké teplotě neutrální složky plazmatu blízké pokojové teplotě (teplota elektronů je 100 000 K) lze vrstvy deponovat i na teplotně citlivé podložky.
Description in English	The system for deposition of dielectric BaxSr1-xTiO3 (BSTO – ferroelectric perovskite) layers, exhibiting a profound permittivity dependency on the dc voltage, employs radio-frequency (RF) plasma-chemical reactor with a jet stream plasmatic channel and at least two hollow cathodes attached to the operational gas source and equipped by high-power RF generator. The cathodes are provided with BaTiO3 and SrTiO3 nozzles. Using the RF current and voltage measured by sample oscilloscopes the system allows a fast deposition of inhomogeneous good-quality layers with continuously varying stoichiometric parameter x. With regard to the low temperature of a neutral plasma component close to the room temperature (while a temperature of electron plasma component is as high as 100 000 K) it is possible to deposit layers also on the thermally sensitive substrates
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2008

Number of the records: 1