Number of the records: 1
Chemická depozice diamantových tenkých vrstev z par plynů
- 1.
SYSNO ASEP 0558458 Document Type C - Proceedings Paper (int. conf.) R&D Document Type Conference Paper Title Chemická depozice diamantových tenkých vrstev z par plynů Title Chemical deposition of diamond thin films from gas vapors Author(s) Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI Number of authors 1 Source Title Zpravodaj ČVS, 30, 1. - Praha : Česká Vakuová Společnost, 2022 / Drbohlav J. - ISSN 1213-2705 Pages s. 11-15 Number of pages 5 s. Publication form Online - E Action LŠVT - Letní škola vakuové techniky 2022 Event date 30.05.2022 - 02.06.2022 VEvent location Bítov Country CZ - Czech Republic Event type EUR Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords diamond technology ; nucleation ; chemical vapor deposition Subject RIV BM - Solid Matter Physics ; Magnetism OECD category Coating and films R&D Projects LM2018110 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation Příprava diamantových vrstev a jejich (nano-) struktur vyžaduje zvládnutí více technologických kroků. V prvním kroku „diamantové technologie” je důležité aktivovat povrch nediamantové podložky vhodným procesem známým jako nukleace nebo zárodkování. Nejčastěji se jedná o proces pokrytí povrchu podložky (nano-) částicemi diamantu nebo aktivace povrchu podložky iontovým bombardováním. Druhým klíčovým krokem je samotný růst diamantové vrstvy tzv. chemickou depozicí z par plynů (tzv. „Chemical Vapor Deposition” - CVD) za nízkých tlaků (10 ÷ 10 000 Pa) a teplot v rozsahu 250 ÷ 1000 °C, která je nejčastěji realizována v plynné směsi metanu a vodíku v systému žhaveného vlákna nebo mikrovlnného plazmatu. V tomto příspěvku jsou oba technologické kroky, nukleace a růst, diskutovány se zřetelem aktuálních trendů a experimentálních aktivit probíhajících v laboratořích Fyzikálního ústavu AV ČR (FZÚ).
Description in English The preparation of diamond layers and their (nano-) structures requires the optimization of several technological steps. In the first step of “diamond technology” it is important to activate the surface of the non-diamond substrate by a suitable process known as nucleation or nucleation. The second key step is the growth of the diamond layer itself by chemical vapor deposition (CVD) under low pressures (10 ÷ 10,000 Pa) and temperatures in the range of 250 ÷ 1000 °C, and from a gas mixture of methane and hydrogen commonly used in a hot filament or microwave plasma CVD systems. In this paper, both technological steps, nucleation and growth, are discussed in light of current trends and experimental activities taking place in the laboratories of the Institute of Physics of the Academy of Sciences of the Czech Republic (FZÚ). Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2023
Number of the records: 1