Number of the records: 1

SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec

SYSNO ASEP	0549960
Document Type	V - Research Report
R&D Document Type	V - Research Report
Title	SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec
Title	SMV-2021-31: TELIGHT aiming pattern
Author(s)	Matějka, Milan (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Horáček, Miroslav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Chlumská, Jana (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Kolařík, Vladimír (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Krátký, Stanislav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI}
Issue data	Brno: TELIGHT Brno, s.r.o., 2021
Number of pages	8 s.
Publication form	Print - P
Language	cze - Czech
Country	CZ - Czech Republic
Keywords	e-beam lithography ; optics ; reactive ion etching
Subject RIV	BH - Optics, Masers, Lasers
OECD category	Optics (including laser optics and quantum optics)
Next source	Non-public resources
Annotation	Oblast vývoje se týká realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Vývoj technologie tvorby přesného fázového filtru planparalelního typu pro optické aplikace modifikací křemenných podložek pomocí přesného suchého leptání.
Description in English	The field of development concerns the realization of precise relief structures using electron lithography and reactive ion etching. Development of technology for the creation of a precise phase filter of the plane-parallel type for optical applications by modification of quartz substrates by means of precise dry etching.
Workplace	Institute of Scientific Instruments
Contact	Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
Year of Publishing	2022

Number of the records: 1