Number of the records: 1
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy
- 1.
SYSNO ASEP 0499948 Document Type L - Prototype, Functional Specimen R&D Document Type Prototype, Functional Specimen RIV Subspecies Functional Specimen Title Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy Title Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films Author(s) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCIDYear of issue 2018 Int.Code FVG1/FZU/2018 Technical parameters Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole Economic parameters Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum Owner Name Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Oddělení optických a biofyzikálních systémů Registration Number of the result owner 68378271 Applied result category by the cost of its creation A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč License fee fee A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no., FVG1/FZU/2018 Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords sputtering ; thin films ; plasma ; deposition ; hollow cathode Subject RIV BL - Plasma and Gas Discharge Physics OECD category Fluids and plasma physics (including surface physics) R&D Projects FV20580 GA MPO - Ministry of Industry and Trade (MPO) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation HiPIMS reaktivní systém se dvěma magnetrony a ICP RF rezonanční elektrodou byl realizován pro depozice optických polovodivých vrstev na plošné optické struktury Description in English HiPIMS reactive system with two magnetrons and ICP RF resonance electrode was realized for the deposition of optical semiconductor thin films on the surface optical structures. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2021
Number of the records: 1