Number of the records: 1
Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu
- 1.
SYSNO ASEP 0496767 Document Type L - Prototype, Functional Specimen R&D Document Type Prototype, Functional Specimen RIV Subspecies Functional Specimen Title Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu Title Apparatus for detecting of particles in coated resist layer Author(s) Drozd, Michal (UPT-D)
Knápek, Alexandr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Král, Stanislav (UPT-D) RID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Pavelka, Jan (UPT-D) RID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Meluzín, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAINumber of authors 10 Year of issue 2018 Int.Code APL-2018-05 Technical parameters Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘. Economic parameters Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz Owner Name Ústav přístrojové techniky AV Ř, v. v. i. Registration Number of the result owner 68081731 Applied result category by the cost of its creation A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč License fee fee A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no., APL-2018-05 Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords e–beam lithography ; quality control ; image processing Subject RIV JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering OECD category Automation and control systems R&D Projects TG03010046 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) LO1212 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) Institutional support UPT-D - RVO:68081731 Annotation Funkční vzorek WaferScan je rastrovací zařízení, umožňující skenovat křemíkovou podložku (wafer) optickou kamerou a analýzou obrazu v počítači zjistit polohu a velikost defektů a prachových částic v rezistu naneseném na waferu. Celé zařízení se skládá ze dvou pohyblivých os x a y, které umožňují pohyb kamery, a příslušené elektroniky. Součástí je také software k ovládání zařízení a zpracování obrazu. Description in English Functional sample WaferScan is a scanning device that allows to scan a silicon wafer coated with a resist layer. Wafer surface is scanned with an optical camera and the image is analyzed on the computer to determine the location and size of the defects and dust particles in the resist layer. The entire device consists of two moving axes x and y (that allow the movement of the camera) and the control electronic circuitry. Software to control the scanning device and the image processing tool are also included. Workplace Institute of Scientific Instruments Contact Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Year of Publishing 2019
Number of the records: 1