Number of the records: 1  

Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm

  1. 1.
    SYSNO ASEP0486974
    Document TypeL - Prototype, Functional Specimen
    R&D Document TypePrototype, Functional Specimen
    RIV SubspeciesFunkční vzorek
    TitleSurfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
    TitleSurfatron plasma source for substrates up to 100 mm
    Author(s) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Tvarog, Drahoslav (FZU-D)
    Pultar, M. (CZ)
    Šmíd, Jiří (FZU-D)
    Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Poruba, Aleš (FZU-D) RID
    Vaněk, J. (CZ)
    Pečiva, L. (CZ)
    Lukašík, P. (CZ)
    Dolák, J. (CZ)
    Year of issue2017
    Int.CodeFV1/FZU/2017
    Technical parametersLaboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Economic parametersVyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
    Owner NameFyzikální ústav AV ČR, v.v.i.
    Registration Number of the result owner68378271
    Applied result category by the cost of its creationA - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    Use by another entityA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    License fee feeA - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Languagecze - Czech
    CountryCZ - Czech Republic
    KeywordsMicrowave surfatron ; thin films ; low-temperature plasma ; ALD ; deposition ; plasma diagnostics
    Subject RIVBL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECDFluids and plasma physics (including surface physics)
    R&D ProjectsTF03000025 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportFZU-D - RVO:68378271
    AnnotationV rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali mikrovlnný tryskový zdroj plazmatu nazývaný surfatron vhodný pro použití v ALD depozičním systému. Změřené parametry plazmatu prokázali, že surfatronový zdroj plazmatu je schopný generovat nízkoteplotní plazma s parametry vykazující lepší jak 10% nehomogenitu v místě uložení podložky.
    Description in EnglishAs part of the TACR project, we have developed and implemented a microwave plasma jet source called surfatron suitable for use in the ALD deposition system. The measured plasma parameters showed that the surfatron is capable of generating the low-temperature plasma with parameters exhibiting better than 10% inhomogeneity in vicinity of substrate.
    WorkplaceInstitute of Physics
    ContactEva Pulcmanová, pulcman@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Year of Publishing2018