Number of the records: 1
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
- 1.
SYSNO ASEP 0486974 Document Type L - Prototype, Functional Specimen R&D Document Type Prototype, Functional Specimen RIV Subspecies Functional Specimen Title Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm Title Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm Author(s) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
Pultar, M. (CZ)
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Poruba, Aleš (FZU-D) RID
Vaněk, J. (CZ)
Pečiva, L. (CZ)
Lukašík, P. (CZ)
Dolák, J. (CZ)Year of issue 2017 Int.Code FV1/FZU/2017 Technical parameters Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum Economic parameters Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč. Owner Name Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Registration Number of the result owner 68378271 Applied result category by the cost of its creation A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Use by another entity A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence License fee fee A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords Microwave surfatron ; thin films ; low-temperature plasma ; ALD ; deposition ; plasma diagnostics Subject RIV BL - Plasma and Gas Discharge Physics OECD category Fluids and plasma physics (including surface physics) R&D Projects TF03000025 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali mikrovlnný tryskový zdroj plazmatu nazývaný surfatron vhodný pro použití v ALD depozičním systému. Změřené parametry plazmatu prokázali, že surfatronový zdroj plazmatu je schopný generovat nízkoteplotní plazma s parametry vykazující lepší jak 10% nehomogenitu v místě uložení podložky.
Description in English As part of the TACR project, we have developed and implemented a microwave plasma jet source called surfatron suitable for use in the ALD deposition system. The measured plasma parameters showed that the surfatron is capable of generating the low-temperature plasma with parameters exhibiting better than 10% inhomogeneity in vicinity of substrate.
Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2018
Number of the records: 1