Number of the records: 1
Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu
- 1.
SYSNO ASEP 0481686 Document Type P - Patent R&D Document Type Patent or other outcome protected by special legislation Title Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu Title A method of controlling the rate of deposition of thin layers in a vacuum multi-nozzle plasma system and a device for implementing this method Author(s) Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCIDYear of issue 2017 Possible third party use of the result A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Royalty requested A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Patent no. or utility model no. or industrial design no. 306980 Date of the patent acceptance 13.09.2017 Name of the patent owner Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Code of the issuer name CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague Current use A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Language cze - Czech Keywords hollow cathode ; plasma nozzle ; deposition ; thin films Subject RIV BL - Plasma and Gas Discharge Physics OECD category Fluids and plasma physics (including surface physics) R&D Projects TF01000084 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému využívajícím plazmochemické reakce v aktivní zóně generovaného výboje a tvořeném alespoň jednou řadou plazmatických trysek (4), jejichž pracovní trubice (42) jsou zakončeny dutou katodou (44), jejíž ústí je ustaveno v blízkosti horní plochy nosné soupravy (2) s uloženým substrátem (3), kde podstata řešení spočívá v tom, že při depozici tenké vrstvy na substrát (3) je po samostatném zapálení výbojů v každé plazmové trysce (4) a při řízení jejich parametrů prostřednictvím vnějších zdrojů (6) napětí je teplota každé duté katody (44) bezkontaktně monitorována vlastním pyrometrem (8) a na základě vyhodnocení naměřených hodnot teploty a nastavených parametrů výboje je pomocí řídicí jednotky (9) regulován efektivní proud v každé z plazmatických trysek (4) tak, aby depoziční rychlosti všech dutých katod (44) plazmatických trysek (4) byly shodné. Podstatou vynálezu je rovněž zařízení k provádění způsobu řízení rychlosti depozice. Description in English The method of controlling the rate of deposition of thin layers in a vacuum multi-nozzle plasma system using plasmachemical reactions in the active zone of the generated discharge and constituted by at least one set of plasma nozzles (4), whose working tubes (42) are terminated by the hollow cathode (44) whose orifice is established in the vicinity of the upper surface of the support assembly (2) with the deposited substrate (3), wherein the principle of the solution lies in the fact that, during the deposition of the thin layer on the substrate (3), after the individual ignition of the discharges in each of the plasma nozzle (4) and during controlling their parameters by means of the external voltage sources (4), the temperature of each hollow cathode (44) is contactlessly monitored by its own pyrometer (8) and, based on the evaluation of the measured temperature values and the set parameters of the discharge, the effective current in each of the plasma nozzles (4) is controlled by the control unit (9), so that the deposition rates of all the hollow cathodes (44) of the plasma nozzles (4) were identical. A device for implementing the method of controlling the rate of deposition is also the essence of the invention. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2018 Electronic address https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241583&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Number of the records: 1