Number of the records: 1  

Ovrstvení Si desek tlustou vrstvou rezistu a kontrola vrstvy

  1. 1.
    SYSNO ASEP0478403
    Document TypeZ - Pilot plant, Verified Technology, Plant Breed/Variety
    R&D Document TypePilot Plant, Verified Technology, Plant Breed/Variety
    RIV SubspeciesOvěřená technologie
    TitleOvrstvení Si desek tlustou vrstvou rezistu a kontrola vrstvy
    TitleThick layer coating on Si wafers and the control of the layer
    Author(s) Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Number of authors3
    Year of issue2017
    Int.CodeAPL-2017-02
    Technical parametersVrstvy rezistu se nanáší na křemíkové podložky průměru 4-6 palců. Nominální tloušťka vrstev je 10 mikronů. Technologie vyžaduje čistou laboratoř s třídou čistoty 1000 nebo lepší.
    Economic parametersOvěřená technologie realizovaná při řešení grantů, využívaná příjemcem při vývoji planárních mikrostruktur v rámci projektu FV10618 a v rámci smluvního výzkumu. Kontakt: Ing. Miroslav Horáček, Ph.D., mih@isibrno.cz
    Owner NameÚstav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    Registration Number of the result owner68081731
    Applied result category by the cost of its creationA - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    Possible third party use of the resultA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no.,APL-2017-02
    Licence feeA - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Languagecze - Czech
    CountryCZ - Czech Republic
    Keywordse-beam lithography ; PMMA rezist ; thick layers ; spin coating
    Subject RIVJA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
    OECD categoryMaterials engineering
    R&D ProjectsLO1212 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
    ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
    Institutional supportUPT-D - RVO:68081731
    AnnotationTechnologie pro ovrstvení křemíkových desek plátku s tlustou vrstvou rezistu zahrnuje pět technologických operací.
    Description in EnglishTechnology for the coating of silicon wafer with a thick layer of resist inscludes five technological operations.
    WorkplaceInstitute of Scientific Instruments
    ContactMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Year of Publishing2018
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.