Number of the records: 1

Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu

SYSNO ASEP	0476548
Document Type	P - Patent
R&D Document Type	Patent or other outcome protected by special legislation
Title	Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu
Title	A method of measuring deposition low pressure plasma using wave resonance of electron cyclotron waves and a device for performing this method
Author(s)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Adámek, Jan (FZU-D) Straňák, Vítězslav (FZU-D)_{RID, ORCID}
Year of issue	2017
Possible third party use of the result	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Royalty requested	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Patent no. or utility model no. or industrial design no.	306799
Date of the patent acceptance	31.05.2017
Name of the patent owner	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i
Code of the issuer name	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Current use	A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
Language	cze - Czech
Keywords	plasma deposition ; electrone-cyclotrone wave ; acoustic emission
Subject RIV	BL - Plasma and Gas Discharge Physics
OECD category	Fluids and plasma physics (including surface physics)
R&D Projects	TA03010743 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Annotation	Byl realizován způsob měření parametrů nízkotlakého plazmatu, které se používá pro různé aplikace jako je plazmatická depozice tenkých vrstev, plazmové leptání, plazmové iontové zdroje atd. a týká se způsobu měření s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu.Měřící systém je součástí zařízení pro přípravu detekčních struktur akustické emise.
Description in English	A method for measuring low-pressure plasma parameters used for various applications such as plasma thin film deposition, plasma etching, plasma ion sources, etc., has been realized and corresponds to the method of measurement using wave resonance of electrone-cyclotrone wave and device for realization of this method. The measurement system Is part of the device for the preparation of acoustic emission detection structures.
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2017
Electronic address	https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10195504&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=

Number of the records: 1