Number of the records: 1  

Technologie zhotovení pokročilých PDMS mikrofluidních čipů s vnitřními stěnami odolnými k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám

  1. 1.
    SYSNO ASEP0470911
    Document TypeZ - Pilot plant, Verified Technology, Plant Breed/Variety
    R&D Document TypePilot Plant, Verified Technology, Plant Breed/Variety
    RIV SubspeciesOvěřená technologie
    TitleTechnologie zhotovení pokročilých PDMS mikrofluidních čipů s vnitřními stěnami odolnými k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám
    TitleTechnology of manufacturing of advanced PDMS microfluidic chips with inner walls resistant to organic solvents and small nonpolar organic molecules
    Author(s) Pilát, Zdeněk (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Ježek, Jan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Zemánek, Pavel (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Trtílek, M. (CZ)
    Number of authors4
    Year of issue2016
    Int.CodeAPL-2016-16
    Technical parametersTechnologie je založena na vhánění tlakového vzduchu zbaveného vlhkosti a nečistot do prostoru ionizátoru, kde probíhá doutnavý elektrický výboj (5-20 kV), který ionizuje kyslíkové a dusíkové molekuly, čímž je generován ozon (O3) a oxidy dusíku (NOx). Vzniklá směs plynů se silnými oxidačními vlastnostmi je vháněna kapilárou do kanálků mikrofluidního čipu vytvořeného z PDMS (poly-(dimethylsiloxan)), případně z kombinace PDMS a skla. Ozon přítomný ve směsi rychle aktivuje vnitřní stěny kanálků ze skla a PDMS a oxiduje organické nečistoty za vzniku CO2. Při delší expozici (1 hodina a více) PDMS výrazně oxiduje v povrchové vrstvě až na oxid křemičitý (SiO2). Takto upravený povrch vykazuje oproti běžnému PDMS zvýšenou odolnost k organickým rozpouštědlům a malým nepolárním organickým molekulám. Vrstva SiO2 efektivně zabraňuje difuzi těchto molekul do PDMS. Použitý doutnavý výboj je generován pomocí hrotových elektrod se vzduchem jako dielektrikem, nebo mřížkovými elektrodami se skleněným dielektrikem.
    Economic parametersOvěřená technologie realizovaná při řešení grantu. Je uzavřena smlouva o využití výsledku s firmou PSI (Photon Systems Instruments), spol. s r.o. (IČ 60646594) s dohodnutým rozdělením výnosů. Kontakt: Mgr. Zdeněk Pilát, Ph.D., pilat@isibrno.cz
    Owner NameÚstav přístrojové techniky AV ČR
    Registration Number of the result owner68081731
    Applied result category by the cost of its creationA - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    Possible third party use of the resultA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no.,APL-2016-16
    Licence feeA - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Languagecze - Czech
    CountryCZ - Czech Republic
    Keywordsmicrofluidic chips ; PDMS
    Subject RIVBH - Optics, Masers, Lasers
    R&D ProjectsTA03010642 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    LO1212 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
    Institutional supportUPT-D - RVO:68081731
    AnnotationTechnologie pro povrchovou úpravu PDMS mikrofluidních kanálků pomocí ozonu a oxidů dusíku, sloužící ke zvýšení jejich chemické odolnosti.
    Description in EnglishTechnology for surface treatment of PDMS microfluidic channels by ozone and nitrogen oxides, leading to improved chemical resistance.
    WorkplaceInstitute of Scientific Instruments
    ContactMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Year of Publishing2017
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.