Number of the records: 1

Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému

SYSNO ASEP	0466215
Document Type	P1 - Utility model, Industrial Design
R&D Document Type	Results of legal proteciton (Utility Model , Industrial Design)
RIV Subspecies	Užitný vzor
Title	Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému
Title	Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system
Author(s)	Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID}
Year of issue	2016
Name of the patent owner	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Adress	Praha 8, Na Slovance 2
Date of the utility model acceptance	15.11.2016
Utility model number	30018
Licence fee	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Current use	A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
Use by another entity	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Code of the issuer name	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Language	cze - Czech
Keywords	plasma jet ; thin films ; hollow cathode ; sputtering
Subject RIV	BL - Plasma and Gas Discharge Physics
OECD category	Fluids and plasma physics (including surface physics)
R&D Projects	TF01000084 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Annotation	Technické řešení spadá do oblasti aplikace technologických postupů při vytváření tenkých vrstev, zejména čistých kovů, jejich oxidů, nitridů či dalších sloučenin, na povrchu substrátu a týká se zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému při využití plazmochemických reakcí v aktivní zóně generovaného výboje. Řešení je uzpůsobeno zejména ve spojení s uplatněním technologií plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě hořící v režimu HCA (Hollow Cathode Arc).
Description in English	Technical solution belongs to area of application of technological processes for deposition of thin films, namely pure metals, their oxides, nitrides or other compounds on the substrate surface and is focused on device for controlling the deposition of thin films by vacuum multi-plasma-jet system using plasma chemical reactions in the active zone of generated discharge. Solution is adapted particularly in connection with the technology of the plasma jet working on the principle of hollow cathode discharge burning in HCA regime(Hollow Cathode Arc).
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2017
Electronic address	https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0030/uv030018.pdf

Number of the records: 1