Number of the records: 1

Vícetryskový PVD depoziční systém

SYSNO ASEP	0465021
Document Type	L - Prototype, Functional Specimen
R&D Document Type	Prototype, Functional Specimen
RIV Subspecies	Functional Specimen
Title	Vícetryskový PVD depoziční systém
Title	Multijet PVD deposition system
Author(s)	Šmíd, Jiří (FZU-D) Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Year of issue	2016
Int.Code	UHV-4DK/FZU2016
Technical parameters	Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
Economic parameters	Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
Owner Name	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Na Slovance 2, Praha 8
Registration Number of the result owner	68378271
Applied result category by the cost of its creation	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Use by another entity	P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence
License fee fee	Z - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek
Language	cze - Czech
Country	CZ - Czech Republic
Keywords	hollow cathode discharge ; multi plasma-jet ; thin films ; PVD ; sputtering
Subject RIV	BL - Plasma and Gas Discharge Physics
R&D Projects	TF01000084 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Annotation	Funkční vzorek představuje vysokorychlostní depoziční zařízení určené primárně pro nanášení homogenních oxidových vrstev. Systém využívá několik plazmatických trysek umístěných do jedné řady, které pracují na principu výboje v duté katodě. Vysoké depoziční rychlosti je dosahováno kombinací nereaktivního rozprašování ve vnitřním prostoru duté katody a tepelnou evaporací materiálu z povrchu trysky.
Description in English	High speed deposition system for homogenous sputtering of oxide thin films. The system uses several plasma-nozzles mounted in one line, which work on the principle of hollow cathode discharge. High speed of deposition process is achieved by combination of non-reactive sputtering inside the hollow cathode with thermal evaporation of hollow cathode material.
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2017

Number of the records: 1