Number of the records: 1  

Zdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace a způsob výroby sendvičové struktury pro tento zdroj

  1. 1.
    SYSNO ASEP0464519
    Document TypeP - Patent
    R&D Document TypePatent or other outcome protected by special legislation
    TitleZdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace a způsob výroby sendvičové struktury pro tento zdroj
    TitleLow-temperature plasma source with possibility of both contact and contactless application and process for preparing sandwich structure for such a source
    Author(s) Churpita, Olexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Zablotskyy, Vitaliy A. (FZU-D) RID
    Syková, Eva (UEM-P) RID
    Kubinová, Šárka (UEM-P) RID, ORCID
    Year of issue2016
    Possible third party use of the resultA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    Royalty requestedA - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Patent no. or utility model no. or industrial design no.306217
    Date of the patent acceptance24.08.2016
    Name of the patent ownerFyzikální ústav AV ČR, v.v. i. - Ústav experimentální medicíny AV ČR, v.v. i.
    Code of the issuer nameCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Current useA - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
    Languagecze - Czech
    Keywordsatmospheric ; plasma ; biomedical applications
    Subject RIVBL - Plasma and Gas Discharge Physics
    Subject RIV - cooperationInstitute of Experimental Medicine - Biophysics
    R&D ProjectsTA04010449 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportFZU-D - RVO:68378271 ; UEM-P - RVO:68378041
    AnnotationZdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích, obsahující zdroj (9) střídavého vysokého napětí a duté izolační těleso (1), do jehož vnitřního prostoru (11) je zaústěn přívod pracovního plynu (GAS) a je v něm umístěna sendvičová struktura obsahující vnitřní budicí elektrodu (5) připojenou na zdroj (9) střídavého vysokého napětí, kde podstata vynálezu spočívá v tom, že sendvičová struktura uložená ve vnitřním prostoru (11) sestává ze vzájemně nad sebou uložených vrstev, nevodivé horní porézní membrány (4), vnitřní budicí elektrody (5), nevodivé spodní porézní membrány (6) a vnější zemnicí elektrody (7), přičemž nosná část sendvičové struktury obsahující horní porézní membránu (4), vnitřní budicí elektrodu (5) a spodní porézní membránu (6) je vytvořena jako jeden pevný celek.
    Description in EnglishThe present invention relates to a low-temperature plasma source, intended particularly for use in medicinal bioapplications, comprising a high-voltage source (9) of alternating current and a hollow insulating body (1), in the internal space (11) of which, there is a processing gas inlet (GAS) and in which, there is disposed a sandwich structure comprising an internal driving electrode (5) connected to the high-voltage source (9) of alternating current, wherein the invention is characterized in that the sandwich structure disposed in the internal space (11) consists of layers of layers arranged one above the other of a non-conducting upper porous membrane (4), the internal driving electrode (5), a non-conducting lower porous membrane (6) and an external ground electrode (7), whereby the bearing portion of said sandwich structure comprising the upper porous membrane (4), the internal driving electrode (5) and the lower porous membrane (6) is made integral.
    WorkplaceInstitute of Physics
    ContactKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Year of Publishing2017
    Electronic addresshttps://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10150276&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.