Number of the records: 1  

Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu ve tvaru různých objemových útvarů

  1. 1.
    SYSNO ASEP0459339
    Document TypeP1 - Utility model, Industrial Design
    R&D Document TypeResults of legal proteciton (Utility Model , Industrial Design)
    RIV SubspeciesUžitný vzor
    TitleZdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu ve tvaru různých objemových útvarů
    TitleLow-temperature plasma source, especially for plasma generation in the form of various voluminous formations
    Author(s) Churpita, Olexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Syková, Eva (UEM-P) RID
    Kubinová, Šárka (FZU-D) RID, ORCID
    Year of issue2016
    Name of the patent ownerFyzikální ústav AV ČR, v. v. i. - Ústav experimentální medicíny AV ČR, v. v. i.
    AdressPraha 8 - Praha 4
    Date of the utility model acceptance08.03.2016
    Utility model number29236
    Licence feeA - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Current useA - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
    Use by another entityA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    Code of the issuer nameCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Languagecze - Czech
    Keywordslow-temperature plasma source ; plasma generation ; various voluminous formations
    Subject RIVBL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OECD categoryFluids and plasma physics (including surface physics)
    R&D ProjectsTA04010449 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportFZU-D - RVO:68378271 ; UEM-P - RVO:68378041
    AnnotationZařízení je vhodné především k úpravě povrchu živé tkáně pro různé medicínské aplikace, jako je dezinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie, stomatologie a kosmetika, přičemž nehrozí nebezpečí poškození tkáně z důvodu možné interakce vysokého elektrického střídavého napětí. Hlavní výhodou tohoto systému je možnost jeho využití při ošetření těžko přístupných dutin.
    Description in EnglishLow-temperature plasma source, especially for plasma generation in the form of various voluminous formations, for a variety of biomedical applications.
    WorkplaceInstitute of Physics
    ContactKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Year of Publishing2017
    Electronic addresshttps://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029236.pdf
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.