Number of the records: 1

Amplitudově fázová vortexová maska

SYSNO ASEP	0449277
Document Type	C - Proceedings Paper (int. conf.)
R&D Document Type	Conference Paper
Title	Amplitudově fázová vortexová maska
Title	An Amplitude-Phase Vortex Photo Mask
Author(s)	Krátký, Stanislav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Meluzín, Petr (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Urbánek, Michal (UPT-D)_RID Matějka, Milan (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Chlumská, Jana (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Horáček, Miroslav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Kolařík, Vladimír (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI}
Number of authors	7
Source Title	Sborník příspěvků multioborové konference LASER 55. - Brno : Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2015 - ISBN 978-80-87441-16-9
Pages	s. 32-33
Number of pages	2 s.
Publication form	Print - P
Action	LASER 55
Event date	21.10.2015-23.10.2015
VEvent location	Třešť
Country	CZ - Czech Republic
Event type	WRD
Language	cze - Czech
Country	CZ - Czech Republic
Keywords	photo mask ; vortex beam ; e-beam lithography
Subject RIV	JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
R&D Projects	LO1212 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
	ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
	TE01020233 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
Institutional support	UPT-D - RVO:68081731
Annotation	Problematiku fázových masek jsme prezentovali již na předchozích ročnících této konference: počítačem generované hologramy a fázové masky pro přípravu vláken s Braggovými mřížkami. V tomto příspěvku se zaměříme na prezentaci výsledků dosažených při přípravě skleněné masky pomocí elektronové litografie, která na jedné podložce kombinuje dvě části; amplitudovou část a fázovou část vortexové masky. Obě dvě části jsou připraveny elektronovou litografií. Popis funkčních optických vlastností realizované masky by byl značně nad rámec tohoto příspěvku, a proto se připravuje k samostatné publikaci.
Description in English	The issue of phase photo masks was presented in previous editions of this conference: computer-generated holograms and phase masks to produce fiber Bragg gratings. In this contribution, we will focus on the presentation of results achieved in the preparation of glass masks combining two parts on one substrate: the amplitude portion and the phase portion of a vortex photo mask. Both portions are prepared by electron-beam lithography.
Workplace	Institute of Scientific Instruments
Contact	Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
Year of Publishing	2016

Number of the records: 1