Number of the records: 1  

Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami

  1. 1.
    SYSNO ASEP0434553
    Document TypeC - Proceedings Paper (int. conf.)
    R&D Document TypeConference Paper
    TitleFázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami
    TitlePhase photo masks produced by means of electron beam lithography and ion etching for Bragg gratings
    Author(s) Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Urbánek, Michal (UPT-D) RID
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Šerý, Mojmír (UPT-D) RID, SAI
    Mikel, Břetislav (UPT-D) RID, SAI
    Number of authors8
    Source TitleSborník příspěvků multioborové konference Laser54. - Brno : Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2014 - ISBN 978-80-87441-13-8
    Pagess. 31-32
    Number of pages2 s.
    Publication formPrint - P
    ActionLaser54
    Event date29.10.2014-31.10.2014
    VEvent locationTřešť
    CountryCZ - Czech Republic
    Event typeWRD
    Languagecze - Czech
    CountryCZ - Czech Republic
    Keywordselectron beam lithography ; industrial holography
    Subject RIVBH - Optics, Masers, Lasers
    R&D ProjectsLO1212 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
    ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
    TE01020233 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    TE01020118 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    Institutional supportUPT-D - RVO:68081731
    AnnotationBraggovská vláknová mřížka je založena na principu lokální změny indexu lomu ve vlákně optického vlákna. Má širokou aplikační oblast, používá se např. pro různé typy filtrů v komunikacích, může se též použít v oblasti snímačů mechanického namáhání. Pro přípravu tohoto typu mřížek lze použít různé technologie. Například, index lomu je možné modifikovat přímo při výrobě optického vlákna. Dále, mřížka může být exponována bod po bodu laserovým svazkem. Nejefektivnějším způsobem je expozice přes fázovou masku, neboť jednu masku lze použít pro výrobu stovek mřížek (i když kvalita masky se při expozicích postupně snižuje, ačkoliv je připravena v křemenném skle). Tento příspěvek se zabývá různými přístupy pro přípravu fázových masek z pohledu vlivu na kvalitu exponovaných Braggovských mřížek. Mřížková fázová maska je definována zejména dvěma parametry; periodou a hloubkou (předpokládáme střídu 1:1 mezi výstupky a prohlubněmi mřížky).
    Description in EnglishFiber Bragg grating is based on the local changes of refractive index in the core of the optical fiber. It has a wide application area, e.g. different types of filters in communications, and it may also be used in sensing of mechanical stresses. One can use different technologies to prepare this type of grating, e.g. the refractive index can be modified directly during production of an optical fiber. Further, the grating may be exposed point by point by a laser beam. The most effective way is an exposure through a phase mask, since a mask may be used for the production of hundreds of grids. This paper discusses different approaches for the preparation of phase masks in terms of impact on the quality of the exposed Bragg grating. The lattice phase mask is defined mainly by two parameters; period and depth.
    WorkplaceInstitute of Scientific Instruments
    ContactMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Year of Publishing2015
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.