Number of the records: 1
Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami
- 1.
SYSNO ASEP 0434553 Document Type C - Proceedings Paper (int. conf.) R&D Document Type Conference Paper Title Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami Title Phase photo masks produced by means of electron beam lithography and ion etching for Bragg gratings Author(s) Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Šerý, Mojmír (UPT-D) RID, SAI
Mikel, Břetislav (UPT-D) RID, SAINumber of authors 8 Source Title Sborník příspěvků multioborové konference Laser54. - Brno : Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2014 - ISBN 978-80-87441-13-8 Pages s. 31-32 Number of pages 2 s. Publication form Print - P Action Laser54 Event date 29.10.2014-31.10.2014 VEvent location Třešť Country CZ - Czech Republic Event type WRD Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords electron beam lithography ; industrial holography Subject RIV BH - Optics, Masers, Lasers R&D Projects LO1212 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) TE01020233 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) TE01020118 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support UPT-D - RVO:68081731 Annotation Braggovská vláknová mřížka je založena na principu lokální změny indexu lomu ve vlákně optického vlákna. Má širokou aplikační oblast, používá se např. pro různé typy filtrů v komunikacích, může se též použít v oblasti snímačů mechanického namáhání. Pro přípravu tohoto typu mřížek lze použít různé technologie. Například, index lomu je možné modifikovat přímo při výrobě optického vlákna. Dále, mřížka může být exponována bod po bodu laserovým svazkem. Nejefektivnějším způsobem je expozice přes fázovou masku, neboť jednu masku lze použít pro výrobu stovek mřížek (i když kvalita masky se při expozicích postupně snižuje, ačkoliv je připravena v křemenném skle). Tento příspěvek se zabývá různými přístupy pro přípravu fázových masek z pohledu vlivu na kvalitu exponovaných Braggovských mřížek. Mřížková fázová maska je definována zejména dvěma parametry; periodou a hloubkou (předpokládáme střídu 1:1 mezi výstupky a prohlubněmi mřížky). Description in English Fiber Bragg grating is based on the local changes of refractive index in the core of the optical fiber. It has a wide application area, e.g. different types of filters in communications, and it may also be used in sensing of mechanical stresses. One can use different technologies to prepare this type of grating, e.g. the refractive index can be modified directly during production of an optical fiber. Further, the grating may be exposed point by point by a laser beam. The most effective way is an exposure through a phase mask, since a mask may be used for the production of hundreds of grids. This paper discusses different approaches for the preparation of phase masks in terms of impact on the quality of the exposed Bragg grating. The lattice phase mask is defined mainly by two parameters; period and depth. Workplace Institute of Scientific Instruments Contact Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Year of Publishing 2015
Number of the records: 1