Number of the records: 1
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém
- 1.
SYSNO ASEP 0429387 Document Type P - Patent R&D Document Type Patent or other outcome protected by special legislation Title Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém Title A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma, a measuring system for implementing the method and the probe for measuring system Author(s) Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Adámek, Jiří (UFP-V) RID, ORCID
Stöckel, Jan (UFP-V) RIDYear of issue 2014 Possible third party use of the result A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Royalty requested A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Patent no. or utility model no. or industrial design no. 304493 Date of the patent acceptance 16.04.2014 Name of the patent owner Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i - Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i Code of the issuer name CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague Current use A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Language cze - Czech Keywords Katsumata probe ; ion flux ; ion energy distribution function ; magnetic field Subject RIV BH - Optics, Masers, Lasers R&D Projects TA01010517 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 ; UFP-V - RVO:61389021 Annotation Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu diagnostikovaného plazmového objektu v měřícím systému aplikovaném na plazmochemický reaktor, který je vybaven napájecím zdrojem napojeným na výbojovou elektrodu a referenční elektrodu. Podstata vynálezu spočívá v tom, že po primárním nastavení parametrů měřicího systému pomocí proudových hodnot zdroje referenčního napětí je na sběrné elektrodě snímána volt-ampérová charakteristika iontové složky proudu vzniklého napájením výbojů a procházejícího obvodem: plazmatický objekt – sběrná elektroda – proudový převodník - zdroj referenčního napětí – referenční elektroda, z níž je vyhodnocením v řídicí a měřicí jednotce stanovena iontová distribuční funkce plazmového zdroje. Dále je podstatou vynálezu měřící systém pro provádění tohoto způsobu a konstrukce sondy pro tento měřící systém. Description in English A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma diagnosed plasma object in the measuring system applied to the plasma chemical reactor, which is equipped with a power source connected to the discharge electrode and a reference electrode. Summary of the invention consists in the fact that after the primary parameters measuring system using current values of the reference voltage source is sensed on the collecting electrode volt -ampere characteristics of the ion current component generated power and discharges through the circuits: plasma object - a collecting electrode - current converter - voltage reference - the reference electrode from which the evaluation of the control and measuring unit fixed ion distribution function of the plasma source. Furthermore, the present invention provides a measuring system for implementing the method and structure of the probe for this measurement system. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2015 Electronic address http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=1760204&lan=cs
Number of the records: 1