Number of the records: 1
Tenké vrstvy ZnO připravené pomocí vícetryskového SWD plazmového systému
- 1.
SYSNO ASEP 0427270 Document Type J - Journal Article R&D Document Type Journal Article Subsidiary J Ostatní články Title Tenké vrstvy ZnO připravené pomocí vícetryskového SWD plazmového systému Title ZnO thin films prepared by multi SWD plasma jet system Author(s) Kohout, Michal (FZU-D) RID, ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kment, Š. (CZ)
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Brunclíková, Michaela (FZU-D) RID
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAISource Title Jemná mechanika a optika. - : Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. - ISSN 0447-6441
Roč. 59, č. 2 (2014), s. 38-42Number of pages 5 s. Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords ZnO ; surfatron ; thin films ; Langmuir probe ; plasma density Subject RIV BL - Plasma and Gas Discharge Physics R&D Projects TA01011740 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) LH12045 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Annotation V článku je popsána vícesvazková plazmová aparatura se čtyřmi nezávislými tryskami pracujícími na principu výboje generovaného surfatronem. Tento unikátní systém byl následně optimalizován pro depozice metodou plazmochemického napařování a použit pro přípravu ZnO tenkých vrstev a ZnO vrstev dopovaných hliníkem či manganem. Pomocí Langmuirovy sondy byly studovány časově rozlišené vlastnosti nízkotlakého plazmového svazku pracujícího v pulzním módu za účelem zjištění hustoty plazmatu a elektronové teploty v aktivní části plazmového kanálu. Následně byla připravena sada ZnO vzorků o tloušťce 300 nm, které byly analyzovány pomocí rentgenové difrakce, elektronové mikroskopie, povrchové profilometrie, UV světelné amperometrie, optické elipsometrie a dalších metod. Všechny zkoumané vzorky byly krystalické, vykazovaly vodivost typu N s šířkou zakázaného pásu 3.5 eV a byly fotoelektrochemicky aktivní. Description in English In this paper we deal with multi plasma jet system with 4 independent nozzles working on the principle of surfatron generated discharge. Developed system was optimized for plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) of ZnO thin films and ZnO films doped by aluminum and manganese. Time-resolved measurement of plasma parameters of low pressure deposition process in pulse mode was performed in order to estimate plasma density and electron temperature in the active part of plasma channel. Consequently the set of ZnO thin films with thickness 300 nm was prepared and analyzed by XRD, SEM, EDX, surface profilometry, UV-light amperometry and optical ellipsometry. All samples under study were crystalline in nature, revealed N-type conductivity with band gap 3.5 eV and were photo-electrochemicaly active. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2015
Number of the records: 1