Number of the records: 1  

SMV-2013-19: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci

  1. 1.
    SYSNO ASEP0426257
    Document TypeV - Research Report
    R&D Document TypeV - Research Report
    TitleSMV-2013-19: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci
    TitleSMV-2013-19: Nanolithography system based on two-photon photopolymerization
    Author(s) Jákl, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Šerý, Mojmír (UPT-D) RID, SAI
    Zemánek, Pavel (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Number of authors3
    Issue dataBrno: Měřící technika Morava s.r.o, 2013
    Number of pages2 s.
    Languagecze - Czech
    CountryCZ - Czech Republic
    Keywordsholography ; laser beam shaping ; polymerization
    Subject RIVBH - Optics, Masers, Lasers
    Next sourceNon-public resources
    AnnotationSmluvní výzkum se zabývá experimentálním vývojem aparatury pro dynamické tvarování laserových svazků. Pomocí holografických fázových masek generovaných počítačem je možné v prostoru vzorku vytvořit nezávisle polohovatelná ohniska laserového svazku, měnit jejich intenzitní profil a energii. Prostřednictvím rychlého akustooptického modulátoru lze řídit osvit vzorku a spolu s přesným počítačem řízeným polohovacím stolkem zvolit oblast určenou k osvitu.
    Description in EnglishThe reasearch contract deals with development of experimental setup for dynamic shaping of laser beams. Using computer generated holographic phase masks, it is possible to create independent foci of laser beams in the sample space, change their intensity profiles and power of each diffracted beam. By employing fast acousto-optic modulator, the complex procedure allows control of sample irradiation within microsecond resolution. It is possible to precisely select sample region for laser impact using computer-controlled nano-positioning stage.
    WorkplaceInstitute of Scientific Instruments
    ContactMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Year of Publishing2014
Number of the records: 1