Number of the records: 1

Aparatura pro měření toků neutrálních a ionizovaných částic na substrát v nízkoteplotním plazmatu

SYSNO ASEP	0424549
Document Type	L - Prototype, Functional Specimen
R&D Document Type	Prototype, Functional Specimen
RIV Subspecies	Functional Specimen
Title	Aparatura pro měření toků neutrálních a ionizovaných částic na substrát v nízkoteplotním plazmatu
Title	An apparatus for neutral and ion flux measurement on substrate in a low-temperature plasma
Author(s)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID}
Year of issue	2013
Int.Code	IONEU2013
Technical parameters	Vyvinutá aparatura umožňuje měřit tok (depoziční rychlost) neutrálních nebo nabitých částic na substrát. K tomuto účelu je využito QCM čidlo s možností přivedení předpětí opatřené vhodně zvoleným magneickým polem na vstupu QCM čidla
Economic parameters	Snížení pořizovacích nákladů na přístrojové vybavení.
Owner Name	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Registration Number of the result owner	68378271
Applied result category by the cost of its creation	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Use by another entity	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
License fee fee	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no.,	IONEU2013
Language	cze - Czech
Country	CZ - Czech Republic
Keywords	deposition rate ; neutral/ion flux ratio ; magnetic field ; QCM sensor
Subject RIV	BL - Plasma and Gas Discharge Physics
R&D Projects	TA01010517 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Annotation	V rámci řešení projektu TA01010517 jsme vyvinuli nové měřící zařízení umožňující stanovit depoziční rychlost neutrálních nebo ionizovaných částic dopadajících na substrát. Homogenní magnetické pole na vstupu QCM sensoru umožňuje efektivně potlačit průnik elektronů do oblasti sensoru.
Description in English	Within the project TA01010517, we have developed a new measuring device enabling to determine deposition rate both neutral or ionized particles reaching substrate. Homogeneous magnetic field at the entrance orifice of the QCM sensor enables effectively suppress electron flux on the quartz sensor.
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2014

Number of the records: 1