Number of the records: 1

Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu

SYSNO ASEP	0424534
Document Type	L - Prototype, Functional Specimen
R&D Document Type	Prototype, Functional Specimen
RIV Subspecies	Functional Specimen
Title	Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu
Title	Programmable system for monitoring and control of thin film deposition plasma systems
Author(s)	Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID}
Year of issue	2013
Int.Code	DPCS/FZÚ/2013
Technical parameters	Rychlost 85 KSPS, přesnost měření je 0,024%, vstupní napětí +- 10 V
Economic parameters	V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli automatizovaný systém pro monitorování a řízení procesu depozice tenkých vrstev v plazmatu. Laboratorní zařízení je nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Owner Name	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Registration Number of the result owner	68378271
Applied result category by the cost of its creation	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Use by another entity	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
License fee fee	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no.,	DPCS/FZÚ/2013
Language	cze - Czech
Country	CZ - Czech Republic
Keywords	pohyb substrátu ; PC řízený
Subject RIV	BL - Plasma and Gas Discharge Physics
R&D Projects	TA01010517 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Annotation	V současné době existují komerční technologická zařízení pro automatické řízení depozičního procesu. Tato zařízení jsou určena a uzpůsobena pro konkrétní aplikaci a po instalaci k trvalému procesu výroby, respektive depozice tenkých vrstev. Dodávají se jako integrovaná součást celého systému, reaktorové nádoby, napájecích zdrojů, čerpací vakuové a napouštěcí části. Tyto systémy, kromě toho, že je problematické je snadno implementovat na systémy jiné, nekompatibilní, se vyznačují velmi vysokými náklady. Pro naše podmínky bylo nutno vyvinout podobné zřízení, které není příliš rozsáhlé, umožňuje rychlou a jednoduchou montáž k často, třeba denně se měnícím experimentům a experimentálním zařízením. V našem konkrétním případě byl hlavním požadavkem programovatelný pohyb držáku vzorků, na nichž má být deponována vrstva. Pro tyto účely byl vyvinut počítačem řízený systém, který byl nakonec rozšířen o další funkce.
Description in English	There are currently commercial technologies for the automatic control of the deposition process. These devices are designed and tailored for the specific applications and the installation of a permanent process of production, or deposition of thin films. They are available as an integrated part of the whole system, the reactor vessel, power supplies, vacuum pumping and filling part. Moreover these systems are difficult to implement into the different systems. Incompatibles are characterized by very high costs. For our conditions, it was necessary to develop a similar equipment which is not too extensive, allows for quick and easy installation to frequently, even daily-changing experiment and experimental device. In our particular case, the main requirement programmable movement of the sample holder on which the layer is to be deposited. For these purposes has been developed computer-controlled system that was eventually expanded to include additional features.
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2014

Number of the records: 1