Number of the records: 1

Praktická elektronová litografie

SYSNO ASEP	0423948
Document Type	B - Monograph
R&D Document Type	Monograph
Title	Praktická elektronová litografie
Title	Practical E-Beam Lithography
Author(s)	Matějka, František (UPT-D)_{RID, SAI}
Number of authors	1
Issue data	Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i, 2013
ISBN	978-80-87441-04-6
Number of pages	88 s.
Number of copy	100
Publication form	Print - P
Language	cze - Czech
Country	CZ - Czech Republic
Keywords	e-beam lithography ; e-beam resist ; e-beam exposure
Subject RIV	JA - Electronics ; Optoelectronics, Electrical Engineering
R&D Projects	ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
	TE01020233 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
Institutional support	UPT-D - RVO:68081731
Annotation	Kniha předkládá čtenáři základní koncepty elektronové litografie a autorovy praktické zkušenosti za období třicetileté soustavné činnosti v oboru elektronové litografie a souvisejících technologických postupech.
Description in English	The book presents concepts of electron beam lithography and offers results of author's practical experience over thirty-year continuous activity in the field of e-beam lithography and related processes.
Workplace	Institute of Scientific Instruments
Contact	Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
Year of Publishing	2014

Number of the records: 1