Number of the records: 1

Systém pro měření toků neutrálních a ionizovaných depozičních částic dopadajících na substrát při růstu tenkých vrstev

SYSNO ASEP	0396132
Document Type	P1 - Utility model, Industrial Design
R&D Document Type	Results of legal proteciton (Utility Model , Industrial Design)
RIV Subspecies	Užitný vzor
Title	Systém pro měření toků neutrálních a ionizovaných depozičních částic dopadajících na substrát při růstu tenkých vrstev
Title	System for measurement of ion and neutral particles flux deposited onto substrate during thin film deposition process
Author(s)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kubart, T. (CZ) Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID}
Year of issue	2013
Name of the patent owner	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i
Adress	Praha
Date of the utility model acceptance	16.09.2013
Utility model number	25867
Licence fee	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Current use	A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
Use by another entity	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Code of the issuer name	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Language	cze - Czech
Keywords	ion flux ; neutral particles ; magnetic field ; deposition rate
Subject RIV	BL - Plasma and Gas Discharge Physics
R&D Projects	TA01011740 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
	LH12043 GA MŠMT - Ministry of Education, Youth and Sports (MEYS)
Institutional support	FZU-D - RVO:68378271
Annotation	Technické řešení měřiče ionizovaných a neutrálních depozičních částic a jejich vzájemného poměru lze použít při monitorování vlastností a parametrů procesu nanášení tenkých vrstev pomocí plazmochemických metod PECVD a fyzikálních plazmových depozičních metod PVD. Je známo, že velikost ionizace depozičních částic má velký vliv na kvalitu a fyzikální vlastnosti deponovaných vrstev.
Description in English	Technical solutions of measurement device for ionized and neutral particles and their ratio can be used to monitor the properties and process parameters during thin films deposition by means of PECVD and plasma PVD methods. It is known that the magnitude of the ionization fraction of deposited particles has a large influence on the quality and physical properties of the deposited films.
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2014
Electronic address	http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0025/uv025867.pdf

Number of the records: 1