Number of the records: 1

Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy

SYSNO ASEP	0390204
Document Type	L - Prototype, Functional Specimen
R&D Document Type	Prototype, Functional Specimen
RIV Subspecies	Functional Specimen
Title	Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy
Title	Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes
Author(s)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kšírová, Petra (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID}
Year of issue	2012
Int.Code	FS3/FZÚ/2012
Technical parameters	Typ termočlánku kalorimetrické sondy-K. Základní frekvence QCM senzoru 5000,00 kHz. Frekvenční rozsah pulzního napětí pro měření iontového toku 50-400 kHz. Frekvence RF zdroje harmonického napětí pro měření iontového toku 1 MHz Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: FS3/FZÚ/2012
Economic parameters	V rámci projektu TAČR byl vytvořen měřící diagnostický systém pro velkoplošné depoziční techniky. Tento systém bude součástí realizovaného vícetryskového depozičního MW systému.
Owner Name	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Registration Number of the result owner	68378271
Applied result category by the cost of its creation	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Use by another entity	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
License fee fee	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no.,	Smlouva o spolupráci mezi SVCS Process Inovation s.r.o. a FZU AV ČR ze dne 14.2.2011
Language	cze - Czech
Country	CZ - Czech Republic
Keywords	heating flux ; plasma ; ion flux ; deposition ; thin films ; deposition rate
Subject RIV	BL - Plasma and Gas Discharge Physics
R&D Projects	TA01011740 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
CEZ	AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
Annotation	Byl realizován lineární měřící systém depozičního plazmového procesu pro velkoplošné procesy. Ten umožnil měřit prostorovou distribuci tepelného toku, iontového toku a depoziční rychlosti
Description in English	Linear diagnostic system of the plasma deposition process for large scale depositions was developed. This system is capable to measure spatial distribution of heating flux, ion flux and deposition rate.
Workplace	Institute of Physics
Contact	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Year of Publishing	2013

Number of the records: 1