Number of the records: 1  

Plazmový systém určený pro depozici perovskitových tenkých vrstev

  1. 1.
    SYSNO ASEP0383946
    Document TypeP1 - Utility model, Industrial Design
    R&D Document TypeResults of legal proteciton (Utility Model , Industrial Design)
    RIV SubspeciesUžitný vzor
    TitlePlazmový systém určený pro depozici perovskitových tenkých vrstev
    TitlePlasma system developed for deposition of perovskite thin films
    Author(s) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
    Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
    Suchaneck, G. (DE)
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
    Year of issue2012
    Name of the patent ownerFyzikální ústav AV ČR, v.v. i
    AdressNa Slovance 2, 182 21 Praha 8
    Date of the utility model acceptance21.05.2012
    Utility model number23845
    Licence feeA - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Current useA - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
    Use by another entityA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    Code of the issuer nameCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Languagecze - Czech
    Keywordsplasma ; magnetron sputtering ; plasma-jet ; PZT thin films
    Subject RIVBH - Optics, Masers, Lasers
    R&D ProjectsGC202/09/J017 GA ČR - Czech Science Foundation (CSF)
    TA01010517 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR)
    GAP205/11/0386 GA ČR - Czech Science Foundation (CSF)
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    AnnotationTechnické řešení spadá do oblasti technologických postupů depozice tenkých perovskitových, a to dielektrických, piezoelektrických i ferroelektrických, vrstev s využitím plazmochemických reakcí a pulzním ohřevem substrátu. Týká se konstrukce systému zejména pro realizaci depozice tenkých nanokrystalických vrstev Pb(ZrxTi1-x)O3 (dále vrstev PZT) za nízké teploty na polymerový substrát nebo na polymerový substrát s kovovou elektrodou.
    Description in EnglishThe technical solution falls within the technological processes of deposition of thin perovskite, especially dielectric, piezoelectric and ferroelectric, films using plasma-chemical reactions and pulsed heating of the substrate. This applies especially for system design for implementation of deposition of thin films of nanocrystalline Pb (ZrxTi1-x)O3 (further PZT layers) at low temperature on the polymer substrate or on a polymer substrate with a metal electrode.
    WorkplaceInstitute of Physics
    ContactKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Year of Publishing2013
    Electronic addresshttp://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0023/uv023845.pdf
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.