Number of the records: 1
Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami
- 1.0434553 - ÚPT 2015 RIV CZ cze C - Conference Paper (international conference)
Krátký, Stanislav - Urbánek, Michal - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Šerý, Mojmír - Mikel, Břetislav
Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami.
[Phase photo masks produced by means of electron beam lithography and ion etching for Bragg gratings.]
Sborník příspěvků multioborové konference Laser54. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2014, s. 31-32. ISBN 978-80-87441-13-8.
[Laser54. Třešť (CZ), 29.10.2014-31.10.2014]
R&D Projects: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233; GA TA ČR TE01020118
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : electron beam lithography * industrial holography
Subject RIV: BH - Optics, Masers, Lasers
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0238707
Number of the records: 1