Hybridní plazmová tryska s povrchovou vlnou pro buzení vysoce reaktivních výbojů

0449903 - FZÚ 2016 RIV cze P - Patent Document
Hubička, Zdeněk - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Kromka, Alexander
Hybridní plazmová tryska s povrchovou vlnou pro buzení vysoce reaktivních výbojů.
[Hybrid plasma nozzle with surface wave for driving highly reactive discharges.]
2015. Owner: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Date of the patent acceptance: 09.09.2015. Patent Number: 305482
R&D Projects: GA MŠMT LH12045; GA TA ČR TA03010743
Institutional support: RVO:68378271
Keywords : plasma * discharge * surfatron * thin films
Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=10113746

Hybridní plazmová tryska s povrchovou vlnou pro buzení vysoce reaktivních výbojů je určená zejména pro zabudování do vakuového depozičního systému pro depozice tenkých vrstev obsahujícího vakuovou komoru, v jejímž vnitřním prostoru je instalována plocha pro uložení substrátu a do něhož je zavedena alespoň jedna křemenná pracovní trubice, která je připojena na vnější zdroj pracovního plynu, která je zaústěna do blízkosti plochy pro uložení substrátu a která prochází vně vakuové komory tělem surfatronu, který je napojen na mikrovlnný generátor, vyznačující se tím, že každá pracovní trubice je do vakuové komory zavedena přes křemennou průchodku, která je opatřena křemenným nástavcem orientovaným do vnitřního prostoru vakuové komory, přičemž ve spodní části je pracovní trubice opatřena prstencovou elektrodou, která pracovní trubici obepíná a je elektricky vodivě spojena s vysokofrenvenčním generátorem.

Hybrid plasma jet with surface wave for excitation of high reactive discharges is designed mainly for incorporation in a vacuum deposition system for thin films deposition comprising a vacuum chamber, in the interior of which is installed substrate holder and into which is introduced at least one quartz tube that is connected to an external source of the working gas, which is ended close to substrate holder and which extends outside the vacuum chamber through surfatron body, which is connected to a microwave generator. Each working tube is introduced into the vacuum chamber through a quartz bushing, which is provided with a quartz nozzle facing into interior of the vacuum chamber, the bottom of the tube is provided with an annular working electrode, which surrounds the working tube and is electrically connected with high-frequency generator.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0251346