Number of the records: 1
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy
SYS 0499948 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103221348.4 100 $a 20180829d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy 210 $d 2018 300 $a Změna grantu na FV20580 v RIV s2021 541 $a Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films $z eng 610 $a sputtering 610 $a thin films 610 $a plasma 610 $a deposition 610 $a hollow cathode 700 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236882 $a Straňák $b Vítězslav $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236881 $a Adámek $b Petr $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0357694 $a Tvarog $b Drahoslav $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1