Number of the records: 1
Vícetryskový PVD depoziční systém
SYS 0465021 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103212913.4 017 $2 DOI 100 $a 20161109d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Vícetryskový PVD depoziční systém 210 $d 2016 541 $a Multijet PVD deposition system $z eng 610 $a hollow cathode discharge 610 $a multi plasma-jet 610 $a thin films 610 $a PVD 610 $a sputtering 700 -1
$3 cav_un_auth*0278316 $a Šmíd $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1