Number of the records: 1
RIR MAPLE Procedure for Deposition of Carbon Rich Si/C/H Films
SYS 0424399 LBL 03030^^^^^2200421^^^450 005 20240103203820.4 014 $a 000330208500056 $2 WOS 017 70
$a 10.1016/j.apsusc.2013.11.153 $2 DOI 100 $a 20140218d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng $d eng 102 $a NL 200 1-
$a RIR MAPLE Procedure for Deposition of Carbon Rich Si/C/H Films 215 $a 7 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256173 $1 011 $a 0169-4332 $e 1873-5584 $1 200 1 $a Applied Surface Science $v Roč. 292, FEB 15 (2014), s. 413-419 $1 210 $c Elsevier 610 0-
$a MAPLE 610 0-
$a dendrimer 610 0-
$a SiC 610 0-
$a DLC 610 0-
$a cross-kinking 700 -1
$3 cav_un_auth*0103249 $a Dřínek $b Vladislav $i Oddělení analytické a materiálové chemie $j Department of Analytical and Material Chemistry $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0238707 $a Strašák $b Tomáš $i Oddělení analytické a materiálové chemie $j Department of Analytical and Material Chemistry $p UCHP-M $w Department of Bioorganic Compounds and Nanocomposites $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0261494 $a Novotný $b F. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0103253 $a Fajgar $b Radek $i Oddělení analytické a materiálové chemie $j Department of Analytical and Material Chemistry $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102745 $a Bastl $b Zdeněk $i Odd. nízkodimenzionálních systémů $j Dept. of Low-dimensional Systems $p UFCH-W $w Low-dimensional Systems $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1