Number of the records: 1
SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav
SYS 0545141 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20220320214238.2 017 $2 DOI 100 $a 20210902d m y slo 03 ba 101 $a cze $d cze $d eng 102 $a CZ 200 1-
$a SMV-2021-02: Vývoj a realizace amplitudové masky pro justáž optomechanických soustav 210 $a Brno $c Meopta - optika, s.r.o. $d 2021 215 $a 6 s. $c P 541 $a SMV-2021-02: Development and implementation of amplitude masks for adjustment of optomechanical systems $z eng 610 $a e-beam lithography 610 $a lithography mask 700 -1
$3 cav_un_auth*0311793 $a Meluzín $b Petr $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0301528 $a Chlumská $b Jana $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0354831 $a Kopal $b Jaroslav $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1