Number of the records: 1
Possibilities of laser recrystallization and laser ablation in thin-layer structures based on a-Si:H
SYS 0540759 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103225549.1 017 $2 DOI 100 $a 20210307d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a CZ 200 1-
$a Possibilities of laser recrystallization and laser ablation in thin-layer structures based on a-Si:H 215 $a 22 s. 300 $a nepublikovaná přednáška 463 -1
$1 210 $a Online $d 2020 610 $a CVD 610 $a thin films 610 $a a-Si:H 610 $a nanoparticles 700 -1
$3 cav_un_auth*0100533 $a Stuchlík $b Jiří $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100534 $a Stuchlíková $b The-Ha $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $w Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103253 $a Fajgar $b Radek $p UCHP-M $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $w Department of Laser Chemistry $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0387483 $a Kupčík $b Jaroslav $p FZU-D $i Oddělení materiálové analýzy $j Department of Material Analysis $y SK $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100485 $a Remeš $b Zdeněk $p FZU-D $i Optické materiály $j Optical Materials $w Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1