Number of the records: 1
ICP plazma zdroj
SYS 0539967 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103225448.1 100 $a 20210107d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a ICP plazma zdroj 210 $d 2020 541 $a ICP plasma source $z eng 610 $a inductively coupled plasma 610 $a Minimal Fab 610 $a low-temperature plasma 610 $a ALD 610 $a RF plasma 700 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0357694 $a Tvarog $b Drahoslav $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0017870 $a Poruba $b A. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0061624 $a Dolák $b J. $y CZ
Number of the records: 1