Number of the records: 1
Growth defects in WC:H layers for tribological applications
SYS 0539174 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103225344.8 014 $a 85085735198 $2 SCOPUS 014 $a 000541439800003 $2 WOS 017 70
$a 10.1016/j.vacuum.2020.109372 $2 DOI 100 $a 20210204d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a GB 200 1-
$a Growth defects in WC:H layers for tribological applications 215 $a 7 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257687 $1 011 $a 0042-207X $e 1879-2715 $1 200 1 $a Vacuum $v Roč. 178, Aug (2020), s. 1-7 $1 210 $c Elsevier 608 $a Article 608 $a Proceedings Paper 610 $a DLC 610 $a PACVD 610 $a AFM 610 $a SEM 610 $a FIB 610 $a Raman 700 -1
$3 cav_un_auth*0100379 $a Mates $b Tomáš $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234844 $a Polášek $b J. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0073201 $a Mareš $b P. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0404807 $a Dubau $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0240734 $a Vetushka $b Aliaksi $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100351 $a Ledinský $b Martin $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100196 $a Fejfar $b Antonín $p FZU-D $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0084905 $a Vyskočil $b J. $y CZ 856 $u https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2020.109372 $9 RIV
Number of the records: 1