Number of the records: 1
Semiconducting p-type copper iron oxide thin films deposited by hybrid reactive-HiPIMS plus ECWR and reactive-HiPIMS magnetron plasma system
SYS 0531792 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103224341.8 014 $a 85083043387 $2 SCOPUS 014 $a 000524211800037 $2 WOS 017 70
$a 10.3390/coatings10030232 $2 DOI 100 $a 20200826d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a Semiconducting p-type copper iron oxide thin films deposited by hybrid reactive-HiPIMS plus ECWR and reactive-HiPIMS magnetron plasma system 215 $a 14 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0377065 $1 011 $e 2079-6412 $1 200 1 $a Coatings $v Roč. 10, č. 3 (2020), s. 1-14 $1 205 $a ONLINE $1 210 $c MDPI 608 $a Article 610 $a photocathode film 610 $a r-HiPIMS plus ECWR plasma 610 $a r-HiPIMS plasma 610 $a copper iron oxide 610 $a photocurrent 700 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $z K $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0245114 $a Zlámal $b M. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0357694 $a Tvarog $b Drahoslav $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015740 $a Krýsa $b J. $y CZ 856 $u http://hdl.handle.net/11104/0310408 $9 RIV
Number of the records: 1