Number of the records: 1
Realizace nového optického tenkovrstvého ochranného prvku
SYS 0520342 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103223500.2 017 $2 DOI 100 $a 20200117d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Realizace nového optického tenkovrstvého ochranného prvku 210 $a Praha $c Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. $d 2019 215 $a 14 s. $c E 300 $a Změna grantu na FV20580 v RIV s2021 541 $a Implementation of new optical thin film protection element $z eng 610 $a optical thin film 610 $a sputtering 610 $a semiconductor 610 $a impedance 700 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0357694 $a Tvarog $b Drahoslav $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0095947 $a Houha $b R. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0387717 $a Matulová $b L. $y CZ
Number of the records: 1