Number of the records: 1
Fabrication of functional nanostructures in thin silicon nitride membranes
SYS 0512151 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103223050.3 017 $2 DOI 100 $a 20191202d m y slo 03 ba 101 $a eng $d eng 102 $a JO 200 1-
$a Fabrication of functional nanostructures in thin silicon nitride membranes 215 $a 2 s. $c P 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0512148 $1 200 1 $a Fourth International Symposium on Dielectric Materials and Applications (ISyDMA 4). Book of Abstracts $1 210 $a Amman $c Jordan University of Science & Technology $d 2019 610 $a thin dielectric layers 610 $a silicon nitride 610 $a membranes 610 $a electron beam lithography 700 -1
$3 cav_un_auth*0258195 $a Matějka $b Milan $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $z K $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0301528 $a Chlumská $b Jana $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287343 $a Krátký $b Stanislav $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0299342 $a Řiháček $b Tomáš $p UPT-D $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $w Electron Microscopy $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0299810 $a Knápek $b Alexandr $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $p UPT-D $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1