Number of the records: 1
Pulsed Laser Deposition under Low Background Gas Pressure.
SYS 0508744 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240111141023.9 017 $2 DOI 100 $a 20190923d m y slo 03 ba 101 $a eng $d eng 102 $a CZ 200 1-
$a Pulsed Laser Deposition under Low Background Gas Pressure. 215 $a 1 s. $c C 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0502594 $1 010 $a N $1 200 1 $a Programme. Book of Abstracts $1 210 $a Prague $c Czech Chemical Society $d 2019 610 $a laser deposition 610 $a gas pressure 610 $a nanoparticles 700 -1
$3 cav_un_auth*0287685 $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $w Department of Laser Chemistry $4 070 $a Koštejn $b Martin $p UCHP-M $z K $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103253 $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $w Department of Laser Chemistry $4 070 $a Fajgar $b Radek $p UCHP-M $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103249 $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $w Department of Laser Chemistry $4 070 $a Dřínek $b Vladislav $p UCHP-M $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0270489 $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $w Department of Laser Chemistry $4 070 $a Jandová $b Věra $p UCHP-M $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0259525 $i Strukturní analýza $j Structural Analysis $w Functional Metal Materials and Thin Films $4 070 $a Klementová $b Mariana $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102642 $i Centrum instrumentálních technik $j Centre of Instrumental Techniques $k CIT $l CIT $4 070 $a Bakardjieva $b Snejana $p UACH-T $T Ústav anorganické chemie AV ČR, v. v. i. 856 $q textový soubor
Number of the records: 1