Number of the records: 1
Hybridní reaktivní HiPIMS depoziční systém s pro depozicioptických funkčních vrstev na bázi oxidů kovů
SYS 0500945 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103221511.5 017 $2 DOI 100 $a 20190204d m y slo 03 ba 101 $a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Hybridní reaktivní HiPIMS depoziční systém s pro depozicioptických funkčních vrstev na bázi oxidů kovů 210 $a Praha $c IQ structures $d 2018 215 $a 11 s. 300 $a Změna grantu na FV20580 v RIV s2021 541 $a Hybrid reactive HiPIMS deposition system for the deposition of functional metal oxide thin films $z eng 610 $a plasma 610 $a discharge 610 $a thin film 610 $a HiPIMS 700 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0357694 $a Tvarog $b Drahoslav $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1