Number of the records: 1  

Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm

  1. SYS0486974
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20191016095106.0
    100
      
    $a 20171121d m y slo 03 ba
    101
      
    $a cze
    102
      
    $a CZ
    200
    1-
    $a Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
    210
      
    $d 2017
    541
      
    $a Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm $z eng
    610
      
    $a Microwave surfatron
    610
      
    $a thin films
    610
      
    $a low-temperature plasma
    610
      
    $a ALD
    610
      
    $a deposition
    610
      
    $a plasma diagnostics
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $o Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $w Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $o Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $w Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0357694 $a Tvarog $b Drahoslav $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $o Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0092334 $a Pultar $b M. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0278316 $a Šmíd $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $o Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $w Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0236882 $a Straňák $b Vítězslav $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $o Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $w Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $o Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $w Fyzikální procesy v nízkoteplotním plazmatu $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100468 $a Poruba $b Aleš $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $o Optické materiály $w Optické materiály $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0015169 $a Vaněk $b J. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0358487 $a Pečiva $b L. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0278325 $a Lukašík $b P. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0061624 $a Dolák $b J. $y CZ