Number of the records: 1
Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému
SYS 0466215 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103213034.3 100 $a 20161111d m y slo 03 ba 101 $a cze 200 1-
$a Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému 210 $d 2016 541 $a Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system $z eng 610 $a plasma jet 610 $a thin films 610 $a hollow cathode 610 $a sputtering 700 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0278316 $a Šmíd $b Jiří $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236881 $a Adámek $b Petr $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 856 $9 RIV $u https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0030/uv030018.pdf
Number of the records: 1