Number of the records: 1  

Characterisation of silicon carbide layers formed during BNCD deposition

  1. SYS0456477
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20240103211910.0
    017
      
    $2 DOI
    100
      
    $a 20160212d m y slo 03 ba
    101
      
    $a eng
    102
      
    $a GB
    200
    1-
    $a Characterisation of silicon carbide layers formed during BNCD deposition
    215
      
    $a 3 s. $c P
    463
    -1
    $1 200 1 $a Diamond Conference $v P6.1-P6.3 $1 210 $a Coventry $c University of Warwick $d 2015 $1 702 1 $a Newton $b M.
    610
      
    $a silicon carbide
    610
      
    $a nano-crystalline diamond
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0264753 $a Taylor $b Andrew $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0285329 $a Ashcheulov $b Petr $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100185 $a Drahokoupil $b Jan $i Materiálová analýza $j Material Analysis $p FZU-D $w Magnetic Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0204806 $a Fekete $b Ladislav $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0307669 $a Klimša $b Ladislav $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100485 $a Remeš $b Zdeněk $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0018326 $a Čtvrtlík $b R. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0289944 $a Tomáštík $b J. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0057455 $a Janíček $b P. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0044289 $a Mistrík $b J. $y CZ
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0215563 $a Kopeček $b Jaromír $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0302391 $a Mortet $b Vincent $i Funkční materiály $j Functional Materials $p FZU-D $w Functional Metal Materials and Thin Films $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.