Number of the records: 1
PEC Reliability in 3D E-beam DOE Nanopatterning
SYS 0451587 LBL 03297^^^^^2200313^^^450 005 20240103211324.9 014 $a 84994210513 $2 SCOPUS 017 70
$a 10.1017/S1431927615013422 $2 DOI 100 $a 20160201d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng $d eng 102 $a US 200 1-
$a PEC Reliability in 3D E-beam DOE Nanopatterning 215 $a 6 s. $c P 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0254367 $1 011 $a 1431-9276 $e 1435-8115 $1 200 1 $a Microscopy and Microanalysis $v Roč. 21, S4 (2015), s. 230-235 $1 210 $c Cambridge University Press 610 0-
$a proximity effect correction 610 0-
$a diffractive optical elements 700 -1
$3 cav_un_auth*0287343 $a Krátký $b Stanislav $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0223246 $a Urbánek $b Michal $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $p UPT-D $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1