Number of the records: 1  

On the improvement of PEC activity of hematite thin films deposited by high-power pulsed magnetron sputtering method

  1. SYS0449337
    LBL
      
    03134^^^^^2200469^^^450
    005
      
    20240103211016.4
    014
      
    $a 000347584200038 $2 WOS
    014
      
    $a 84908627727 $2 SCOPUS
    017
    70
    $a 10.1016/j.apcatb.2014.10.015 $2 DOI
    100
      
    $a 20151029d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a eng
    102
      
    $a NL
    200
    1-
    $a On the improvement of PEC activity of hematite thin films deposited by high-power pulsed magnetron sputtering method
    215
      
    $a 7 s.
    300
      
    $a 2017 oprava kódu oboru do RIV
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0256156 $1 011 $a 0926-3373 $e 1873-3883 $1 200 1 $a Applied Catalysis B - Environmental $v Roč. 165, Apr (2015), s. 344-350 $1 210 $c Elsevier
    610
    0-
    $a ALD
    610
    0-
    $a HiPIMS
    610
    0-
    $a passivation layer
    610
    0-
    $a photoelectrochemical water splitting
    610
    0-
    $a very thin films
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0212628 $a Kment $b Š. $y CZ $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0321218 $a Krysa $b C. $y CZ $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0313695 $a Sekora $b D. $y US $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0245114 $a Zlámal $b M. $y CZ $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100485 $a Remeš $b Zdeněk $i Optické materiály $j Optical Materials $p FZU-D $w Optical Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0312384 $a Schmuki $b P. $y DE $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0321219 $a Schubert $b E. $y US $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0228429 $a Zbořil $b R. $y CZ $4 070
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.