Number of the records: 1
FIB Induced Damage Examined with the Low Energy SEM
SYS 0365942 LBL 01779^^^^^2200337^^^450 005 20240103195717.2 014 $a 000290461000006 $2 WOS 014 $a 79955786544 $2 SCOPUS 017 $a 10.2320/matertrans.MB201005 $2 DOI 100 $a 20111031d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng $d eng 102 $a JP 200 1-
$a FIB Induced Damage Examined with the Low Energy SEM 215 $a 5 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0255972 $1 011 $a 1345-9678 $e 1347-5320 $1 200 1 $a Materials Transactions $v Roč. 52, č. 3 (2011), s. 292-296 $1 210 $c Japan Institute of Metals and Materials 610 0-
$a scanning low energy electron microscopy 610 0-
$a focused ion beam 610 0-
$a beam induced damage 610 0-
$a sputtering 700 -1
$3 cav_un_auth*0244354 $a Mikmeková $b Šárka $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $w Electron Microscopy $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015967 $a Matsuda $b K. $y JP $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0048732 $a Watanabe $b K. $y JP $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0022459 $a Ikeno $b S. $y JP $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0101598 $a Müllerová $b Ilona $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $w Electron Microscopy $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101547 $a Frank $b Luděk $i D1: Elektronová mikroskopie $j D1: Electron Microscopy $p UPT-D $w Electron Microscopy $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1