Number of the records: 1
Effect of nitrogen doping on TiO.sub.x./sub.N.sub.y./sub. thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering
SYS 0358730 LBL 02524^^^^^2200397^^^450 005 20240103195103.9 014 $a 000279318600010 $2 WOS 017 $a 10.1088/0022-3727/43/28/285203 $2 DOI 100 $a 20110401d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a GB 200 1-
$a Effect of nitrogen doping on TiOxNy thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering 215 $a 7 s. 300 $a 285203 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257167 $1 011 $a 0022-3727 $e 1361-6463 $1 200 1 $a Journal of Physics D-Applied Physics $v Roč. 43, č. 28 (2010), s. 1-7 $1 210 $c Institute of Physics Publishing 610 0-
$a magnetron sputtering 610 0-
$a TiO2 610 0-
$a pulse discharge 610 0-
$a XRD 610 0-
$a band gap 700 -1
$3 cav_un_auth*0236882 $a Straňák $b Vítězslav $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0257505 $a Quaas $b M. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0257507 $a Bogdanowicz $b R. $y PL $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0271477 $a Steffen $b H. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0257508 $a Wulff $b H. $y DE $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $z G $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0224595 $a Hippler $b R. $y DE $4 070 856 $u http://iopscience.iop.org/0022-3727/43/28/285203/
Number of the records: 1