Number of the records: 1
Deposition of Ba.sub.x./sub.Sr.sub.1-x./sub.TiO.sub.3./sub. thin films by double RF hollow cathode plasma jet system
SYS 0319065 LBL 03013^^^^^2200481^^^450 005 20240103191114.4 014 $a 000258126900022 $2 WOS 017 $a 10.1002/ctpp.200810083 $2 DOI 100 $a 20090428d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a DE 200 1-
$a Deposition of BaxSr1-xTiO3 thin films by double RF hollow cathode plasma jet system 215 $a 6 s. 300 $a CEZ:MSM 0021620834 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256454 $1 011 $a 0863-1042 $e 1521-3986 $1 200 1 $a Contributions to Plasma Physics $v Roč. 48, 5-7 (2008), s. 515-520 $1 210 $c Wiley 541 1-
$a Depozice tenkých vrstev BaxSr1-xTiO3 pomocí systému dvou vysokofrekvenčních plazmových trysek s efektem duté katody $z cze 610 0-
$a BSTO 610 0-
$a ferroelectric films 610 0-
$a hollow cathode 610 0-
$a Langmuir probe 610 0-
$a optical emission spectroscopy 610 0-
$a plasma jet 700 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098250 $a Virostko $b Petr $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0236881 $a Adámek $b Petr $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0108363 $a Deyneka $b Alexander $p FZU-D $w Optical and Biophysical Systems $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100158 $a Churpita $b Olexandr $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0040353 $a Valvoda $b V. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1