Number of the records: 1  

Deposition of Ba.sub.x./sub.Sr.sub.1-x./sub.TiO.sub.3./sub. thin films by double RF hollow cathode plasma jet system

  1. SYS0319065
    LBL
      
    03013^^^^^2200481^^^450
    005
      
    20210803162349.8
    014
      
    $a 000258126900022 $2 WOS
    017
      
    $a 10.1002/ctpp.200810083 $2 DOI
    100
      
    $a 20090428d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a eng
    102
      
    $a DE
    200
    1-
    $a Deposition of BaxSr1-xTiO3 thin films by double RF hollow cathode plasma jet system
    215
      
    $a 6 s.
    300
      
    $a CEZ:MSM 0021620834
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0256454 $1 011 $a 0863-1042 $e 1521-3986 $1 200 1 $a Contributions to Plasma Physics $v Roč. 48, 5-7 (2008), s. 515-520
    541
    1-
    $a Depozice tenkých vrstev BaxSr1-xTiO3 pomocí systému dvou vysokofrekvenčních plazmových trysek s efektem duté katody $z cze
    610
    0-
    $a BSTO
    610
    0-
    $a ferroelectric films
    610
    0-
    $a hollow cathode
    610
    0-
    $a Langmuir probe
    610
    0-
    $a optical emission spectroscopy
    610
    0-
    $a plasma jet
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $o Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0098250 $a Virostko $b Petr $p FZU-D $4 070 $o Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0014958 $a Tichý $b M. $y CZ $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $o Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0236881 $a Adámek $b Petr $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $o Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $o Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0108363 $a Deyneka $b Alexander $p FZU-D $w Optical and Biophysical Systems $4 070 $o Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100158 $a Churpita $b Olexandr $p FZU-D $4 070 $o Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0040353 $a Valvoda $b V. $y CZ $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $o Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1